Према принципу ефекта сала, величина потенцијала хале зависи од: Рх је константа ходника, која се односи на полупроводнички материјал; Ја сам струја пристрасности елемента хале; Б је јачина магнетног поља; Д је дебљина полупроводничких материјала.
За одређени уређај за халу, УХ ће у потпуности зависити од измерене јачине магнетног поља Б када је струја оффсета фиксирана.
Халл еффецт
Халл еффецт
Елемент хале обично има четири главна прикључка, од којих су два улазна терминала еластичности елемента И, а друга два су излазни терминали напона хале. Ако два излаза заврше формирају спољашњу петљу, генерише се хала. Уопштено говорећи, подешавање струје оффсета обично даје извор спољног референтног напона. Ако су захтеви за прецизност високи, референтни извор напона се замењује сталним извором струје. Да би се постигла висока осетљивост, неки елементи хале имају легуре са високом пропусношћу на површини сензора. Потенцијал сала таквих сензора је велики, али засићеност се јавља око 0,05 т, што је погодно само за употребу под малим границама и малим распоном.
Када се на оба краја полупроводничке вафра нанесе једнообразно магнетско поље са интензитетом магнетне индукције Б за контролу струје И, напон хола чија је потенцијална разлика УХ генерисана у правцу правоугаона према струјном и магнетском пољу.
